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SK海力士砸下约380亿美元新建两座晶圆厂,扩产HBM与NAND

SK海力士董事会批准约380亿美元建厂计划,龙仁Y2聚焦DRAM/HBM,清州M17聚焦NAND,目标2029年前后投产。

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SK海力士董事会8月7日批准了总额54万亿韩元(约380亿美元)的芯片工厂建设计划,将同时在韩国龙仁和清州新建两座晶圆厂。据PR Newswire和TechPowerUp等多个即时财经渠道披露,此次投资是SK海力士迄今为止规模最大的单一资本支出决策,两座工厂分别聚焦新一代DRAM/HBM和NAND闪存。

位于京畿道龙仁市半导体集群的第二座工厂"Y2"获得35.2万亿韩元(约247亿美元)投资,专门用于生产新一代DRAM和高带宽存储器。龙仁集群是SK海力士的核心扩产基地,总规划投资600万亿韩元,计划建设四座先进晶圆厂及50余家材料、零部件和设备企业的合作园区。首座工厂已于2026年3月动工,预计2027年5月竣工。Y2厂计划2028年12月洁净室启用,2029年5月投产。韩国政府于2024年12月将该集群指定为国家产业园区。

位于忠清北道清州市的"M17"厂获得19.1万亿韩元(约134亿美元),用于生产NAND闪存。清州整体规划投资100万亿韩元,其中M17 NAND工厂占80万亿韩元、配套先进封装设施占20万亿韩元。M17洁净室计划2028年9月启用,2029年1月投产。CEO郭鲁正此前在7月2日宣布清州总规划时,曾表述AI存储芯片"永久缺货",公司正最大化现有M15X工厂产能。

两座工厂的投资背景是全球AI算力需求对存储芯片产出的持续挤压。HBM生产消耗的晶圆面积远高于同代标准DRAM,而AI服务器的快速部署使得原厂不得不将更多产能分配给HBM产线,进一步削弱NAND和标准DRAM的供给弹性。TrendForce在8月4日的报告中预测DRAM供不应求将延续至2027年,这与SK海力士的扩产节奏基本吻合。

从融资角度,SK海力士同时在推进纳斯达克ADR发行计划,拟募资最高290亿美元,部分用于此次工厂建设、先进封装设施和EUV光刻机等设备采购。公司2025财年营收创97万亿韩元纪录,四季度运营利润19.2万亿韩元同比翻倍,为大规模资本开支提供了利润基础。

在竞争端,三星电子同步推进大规模扩产,日本铠侠也将2026至2028年的年均设备投资上调至4700亿日元。三家主要DRAM原厂的产能扩张节奏与AI需求增速,将是决定存储周期何时从供给短缺转向均衡的关键变量。

存储产业链的大规模资本开支如何影响供给与定价

380亿美元的工厂投资传递了一个明确信号:AI带来的存储需求增长已被头部原厂视为长期结构性趋势而非短期周期波动。Y2专攻DRAM/HBM、M17专攻NAND的定位表明,两种存储品类都在转向以AI数据中心需求为导向的产能规划,而非依赖传统的PC和手机消费周期。

对存储产业链上游的半导体设备与材料供应商而言,两座新工厂的建设周期跨越2028至2029年,将创造持续的订单窗口。对下游AI芯片和服务器厂商,SK海力士的扩产有助于中长期HBM供给改善,但在2029年新产能落地之前,2027年DRAM短缺的行业预测意味着供给紧张状态不会因本次投资计划立即缓解。在此期间,HBM价格和供货配额仍然是AI芯片厂商的核心关注变量。

从竞争格局看,SK海力士在HBM市场的先发优势因本轮扩产得到资金和组织上的确认,但三星和美光同样在加速12层HBM4e的验证和量产。三家的产能在2028至2029年集中落地后,HBM市场可能从当前的供给短缺走向更激烈的份额竞争,定价权将从供应商逐步向客户平衡转移。

涉及行业行业影响分析简要理由
半导体利好大规模资本开支确认了AI驱动的存储器需求是长期结构性增长,直接提升存储原厂的产能与收入天花板;短期供给紧张到2027年前难以缓解。
半导体材料与设备利好两座新工厂从2026年至2029年持续建设,将拉动EUV光刻机、刻蚀、沉积和检测设备以及硅片、化学品和封装材料需求。
涉及的上市公司证券代码个股影响分析简要理由公允价值参考分析师平均目标价参考
SK海力士OTC:SKHY利好380亿美元投资锁定公司中长期产能和收入增长路径,HBM先发优势获得资本确认;ADR发行和融资进度、2029年量产前的执行风险是主要变量。163.58美元平均252美元

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专题:芯片与硬件

#SK海力士#HBM#DRAM#晶圆厂